Fotochemisch etsen verwijst naar het gebruik van corrosieve vloeistoffen of lasergraveren en andere middelen, het etsen van metalen platen, en dus de vorming van een hol netwerk. Voor het printen van geïntegreerde schakelingen, elektronisch fluorescerend schermrooster, precisiefiltratie, micro-elektrodecomponenten, enzovoort.
Materiaal:
Hoogwaardig roestvrij staal, metaal, legering of riem, de algemene dikte van 0,5 mm. Productieproces: chemisch etsen
technische standaard:
De kleinste draaddiameter van de machine is 0,02 mm, het etsgebied is 500 mm * 600 mm, de materiaaldikte is 0,02 mm - 0,5 mm
gebruik:
Voor het printen van geïntegreerde schakelingen, fluorescerend scherm, elektronisch rooster, precisiefiltratie, micro-elektrodecomponenten, de elektronica-industrie, de vlakke pen, leadframe, substraat, enzovoort. Kan ook tekens, handelsmerken en voortreffelijk handwerk maken.